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產品詳情

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半導體製冷 冷熱平板

通用實驗溫控臺, TEC半導體溫控片,降溫時無需液氮製冷耗材,適合長時間實驗 -30℃~120℃ 可編程式控制溫(無需製冷耗材) 方形檯面,40mm~300mm尺寸型號皆有 開放式溫控平臺,適合搭配不同設備
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功能特點

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通用實驗溫控臺,

TEC半導體溫控片,降溫時無需液氮制冷耗材,適合長時間實驗

-30℃~120℃ ? ?可編程控溫(無需制冷耗材)

方形臺面,40mm~300mm尺寸型號皆有

開放式溫控平臺,適合搭配不同設備

溫控區(qū)外露,支持光路垂直觀察和水平觀察

支持樣品的機械固定,增加導熱,如需要真空吸附,請參考TC10X系列

可從溫控器或電腦軟件控制,可提供軟件SDK

*可做定制或改動,詳詢上海恒商

技術參數(shù)

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臺面選項

標準:氧化鋁

可選:鍍鎳、鍍鋅或鍍金

臺面電學接地

標配電接地,可選電懸空和三同軸

底座冷卻

通循環(huán)水,以維持底座溫度在常溫附近

安裝

可固定在實驗平臺上

傳感器/溫控方式

100Ω鉑RTD/PID控制(含LVDC降噪電源)

溫度分辨率

0.01℃

溫度穩(wěn)定性

±0.05℃

溫度均勻性

±0.1℃/cm

全臺面 ±2% 或 更優(yōu)

軟件功能

可設溫控速率,可設溫控程序,可記錄溫控曲線

配置列表

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基本配置

冷熱平板 、mK2000B溫控器、外殼循環(huán)水冷系統(tǒng)

可選配件

安裝支架、樣品固定支架、樣品接電引線

選型表

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型號

臺面尺寸

溫度範圍

變溫速度

加熱

制冷

TP102

40 ? ?mm x 40 mm

-30°C

120°C

+60°C ? ?/ min

-20°C ? ?/ min

TP104

110 ? ?mm x 110 mm

-30°C

120°C

+15°C ? ?/ min

-10°C ? ?/ min

TP106

150 ? ?mm x 150 mm

-30°C

120°C

+15°C ? ?/ min

-6°C ? ?/ min

TP108

200 ? ?mm x 200 mm

-30°C

120°C

+12°C ? ?/ min

-4°C ? ?/ min

TP10C

300 ? ?mm x 300 mm

-30°C

120°C

+7°C ? ?/ min

-4°C ? ?/ min

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TP102G

40 ? ?mm x 40 mm

-30°C

120°C

+60°C ? ?/ min

-20°C ? ?/ min

TP104G

100 ? ?mm x 100 mm

-30°C

120°C

+25°C ? ?/ min

-12°C ? ?/ min

TP106G

150 ? ?mm x 150 mm

-30°C

120°C

+15°C ? ?/ min

-6°C ? ?/ min

TP108G

200 ? ?mm x 200 mm

-30°C

120°C

+12°C ? ?/ min

-4°C ? ?/ min

TP10CG

300 ? ?mm x 300 mm

-30°C

120°C

+7°C ? ?/ min

-4°C ? ?/ min

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